ASTM F576-2001 用椭圆对称法测量硅衬底上绝缘体厚度及折射指数的标准试验方法
作者:标准资料网
时间:2024-05-29 13:27:40
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【英文标准名称】:StandardTestMethodforMeasurementofInsulatorThicknessandRefractiveIndexonSiliconSubstratesbyEllipsometry
【原文标准名称】:用椭圆对称法测量硅衬底上绝缘体厚度及折射指数的标准试验方法
【标准号】:ASTMF576-2001
【标准状态】:作废
【国别】:
【发布日期】:2001
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(US-ASTM)
【起草单位】:F01.06
【标准类型】:(TestMethod)
【标准水平】:()
【中文主题词】:测量;绝缘子;折射指数;硅
【英文主题词】:dielectricthickness;ellipsometry;indexofrefraction;insulatorthickness;refractiveindex;silicondioxide
【摘要】:ThisstandardwastransferredtoSEMI(www.semi.org)May20031.1Thistestmethodcoversthemeasurementbyellipsometryofthethicknessandrefractiveindexofaninsulatorgrownordepositedonasiliconsubstrate.1.2Thistestmethod
【中国标准分类号】:H80
【国际标准分类号】:29_045
【页数】:9P.;A4
【正文语种】:
【原文标准名称】:用椭圆对称法测量硅衬底上绝缘体厚度及折射指数的标准试验方法
【标准号】:ASTMF576-2001
【标准状态】:作废
【国别】:
【发布日期】:2001
【实施或试行日期】:
【发布单位】:美国材料与试验协会(US-ASTM)
【起草单位】:F01.06
【标准类型】:(TestMethod)
【标准水平】:()
【中文主题词】:测量;绝缘子;折射指数;硅
【英文主题词】:dielectricthickness;ellipsometry;indexofrefraction;insulatorthickness;refractiveindex;silicondioxide
【摘要】:ThisstandardwastransferredtoSEMI(www.semi.org)May20031.1Thistestmethodcoversthemeasurementbyellipsometryofthethicknessandrefractiveindexofaninsulatorgrownordepositedonasiliconsubstrate.1.2Thistestmethod
【中国标准分类号】:H80
【国际标准分类号】:29_045
【页数】:9P.;A4
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